特許
J-GLOBAL ID：200903015296901019
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122978
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307200
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】 VHF帯高周波電界を均一に効率よく導入して、小型で簡易なプラズマ処理装置を提供する。【構成】 プラズマ生成室内に、導入波長の1/4長を有する複数のアンテナを放射状に取り付け、これにVHF帯の高周波信号を加えて励振する。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成室内で高周波によって発生する電場を利用して処理ガスをプラズマ化し、該プラズマを基板に照射して基板の表面処理を行うプラズマ処理装置において、プラズマ生成室内に導入波長の1/4長を有する複数のアンテナを放射状に配置し、該アンテナに高周波信号を印加して励振させることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
