特許
J-GLOBAL ID：200903015332837772
プラズマ処理システムにおいてエッチング終点を決定するための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-572928
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526924
出願日： 1999年09月15日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：
【要約】【課題】 静電チャックを用いるプラズマ処理システムにおいて、基板上のターゲット層をエッチングする際に、エッチング処理の終了を確認するための方法および装置。【解決手段】 エッチング処理の終了は、エッチング処理の終了を示すパターンを検出するために、基板の電位をモニタすることによって確認される。例えば、この電位の変化は、静電チャックの電極に流れる電流をモニタすることによって観察される。例えば、電流信号をモニタすることによってエッチング処理の終了を示すパターンを確認したとき、エッチングを終了させるために制御信号が生成される。エッチング中に、静電チャックの複数の電極に流れる複数の電流を異符号でほぼ等しく保つためにバイアス補正電源が用いられる場合、バイアス補正電源によって出力される補正電圧は、エッチングを終了させるために、エッチング処理の終了を示す上記のパターンに関して、モニタされる。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理システムにおいて基板上のターゲット層をエッチングする際にエッチング処理の終了を確認するための終点指示装置であって、 第1の電極と第2の電極とを有する静電チャックと、 前記第1の電極と前記第2の電極とに結合され、前記第1の電極と前記第2の電極とにチャック電圧を供給するための第1のDC電源と、 前記第1の電極と前記第1のDC電源との間に結合され、前記第1の電極に供給される第1の電流をモニタするための第1の電流モニタ回路であって、前記第1の電流を示す第1の信号を出力する前記第1の電流モニタ回路と、 前記第2の電極と前記第1のDC電源との間に結合され、前記第2の電極に供給される第2の電流をモニタするための第2の電流モニタ回路であって、前記第2の電流を示す第2の信号を出力する前記第2の電流モニタ回路と、 前記第1の電流モニタ回路と前記第2の電流モニタ回路とに結合され、前記第1の信号と前記第2の信号とを入力として受け取り、制御信号を出力する差動増幅装置と、 前記差動増幅装置に結合され、前記制御信号を受け取るための可変DC電源であって、前記制御信号に応じて、前記第1のDC電源をバイアスするための補正電圧を出力するように構成された前記可変DC電源と、 前記可変DC電源に結合された終点モニタ回路であって、前記補正電圧を入力として受け取り、前記エッチング処理の前記終了を示すパターンに関して前記補正電圧を解析するための回路を含み、さらに、前記補正電圧において前記パターンを確認したときに、前記エッチング処理の前記終了を示す終点信号を出力するための回路を含む、前記終点モニタ回路と、を備えることを特徴とする終点指示装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/68
, H02N 13/00
H01L 21/68 R
, H02N 13/00 C
, H02N 13/00 D
, H01L 21/302 E
5F004AA16
, 5F004BB22
, 5F004CB05
, 5F004CB15
, 5F004CB20
, 5F004EA01
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031CA11
, 5F031HA19
, 5F031HA38
, 5F031JA01
, 5F031JA10
, 5F031JA47
, 5F031JA51
, 5F031MA32
