特許

J-GLOBAL ID：200903015388835314

基板浸漬処理装置

発明者： 今井 正芳
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020451
公開番号（公開出願番号）：特開2001-205158
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】薬液と純水とを混合して得られる希釈溶液の濃度変動に応じた薬液処理時間を正確に算出して基板の漬浸処理を行う基板漬浸処理装置を提供する。【解決手段】本発明の基板漬浸処理装置は、処理槽2内に供給される薬液及び純水の各流量を測定する薬液流量計7と純水流量計8とが、それぞれの供給管に設置されている。また処理槽2の側壁に、処理槽2内の希釈溶液の温度を測定する温度センサ20が設置されている。薬液流量計7と純水流量計8とから求められた各流量に基づく薬液と純水の積算流量の割合と、上記温度センサ20から求められた希釈溶液の温度とから、薬液処理時間を求める。何らかの原因で前記積算流量の割合や、希釈溶液の温度が変動しても、これらの変動に応じた正確な薬液処理時間を求めることができる。

請求項（抜粋）：

薬液を純水で希釈して得られる希釈溶液中に基板を漬浸して行う薬液処理と、薬液処理された基板を純水中に漬浸して行う洗浄処理とを同じ処理槽内で連続的に行う基板浸漬処理装置において、前記処理槽内に供給する薬液の流量を測定する薬液流量測定手段と、前記処理槽内に供給する純水の流量を測定する純水流量測定手段と、前記薬液及び純水の各流量から、それぞれの積算流量を求める積算流量導出手段と、前記薬液及び純水の各積算流量に基づいて、基板の薬液処理の時間を求める薬液処理時間導出手段と、薬液処理を開始してから、前記薬液処理時間が経過したときに、薬液処理を終了させて洗浄処理に移行させる薬液処理終了手段とを備えていることを特徴とする基板浸漬処理装置。

IPC (7件)：

B05C 3/09 ,  B05C 9/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

B05C 3/09 ,  B05C 9/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/30 569 B ,  H01L 21/306 J

Fターム (35件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096HA19 ,  2H096HA20 ,  4F040AA12 ,  4F040AB14 ,  4F040AB20 ,  4F040CC01 ,  4F040CC20 ,  4F040DA07 ,  4F040DB04 ,  4F040DB10 ,  4F042AA07 ,  4F042BA11 ,  4F042BA19 ,  4F042CB07 ,  4F042CC04 ,  4F042DA01 ,  4F042DH09 ,  5F043AA01 ,  5F043DD13 ,  5F043DD23 ,  5F043DD24 ,  5F043EE01 ,  5F043EE07 ,  5F043EE22 ,  5F043EE23 ,  5F043EE25 ,  5F043EE29 ,  5F043EE30 ,  5F043EE31 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10 ,  5F046LA09 ,  5F046LA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-170122   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 流量計の校正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-225549   出願人：工業技術院長