反射防止フィルム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝田清暉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-075507
公開番号（公開出願番号）：特開2003-240908
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】酸化チタンを高屈折率塗膜層に用いた光学多層膜から成る十分な膜強度と層間密着性を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】チタンアルコキシド単量体及び多量体に、金属と7又は8員環キレートを形成することのできる有機配位子を混合したコーティング用組成物を基材フィルムに塗布して高屈折率塗膜層を形成させる。このコーティング組成物は、一般式Tim(OR1)2m+2(式中、R1は炭素数が1〜5のアルキル基を表し、mは1以上の整数を表す。)で表される化合物及び一般式(2)R2-R3-CnH2n-R4-R5(式中、R2びR5はそれぞれ水素原子、水酸基又は炭素数が1〜5のアルキル基等を表し、R3及びR4は=CO等を表し、nは2又は3の整数を表す。)で表される化合物又はその誘導体並びに有機溶剤から成る。

請求項（抜粋）：

基材フィルム上に順に高屈折率塗膜層及び低屈折率塗膜層を有する反射防止フィルムであって、該高屈折率塗膜層が一般式(1) Tim(OR1)2m+2 (1)(式中、R1は炭素数が1〜5のアルキル基を表し、mは1以上の整数を表す。)で表される化合物及び一般式(2) R2-R3-CnH2n-R4-R5 (2)(式中、R3及びR4はそれぞれのいずれかを表し(但し、これらの基はその炭素原子が-CnH2n-に隣接するように結合する。)、R2及びR5はそれぞれ水素原子又は炭素数が1〜5のアルキル基を表し、-CnH2n-は直鎖であり、nは2又は3の整数を表す。)で表される化合物又はその誘導体並びに有機溶剤から成るコーティング組成物を塗布し乾燥することにより成り、該コーティング組成物を塗布した該基材フィルムの乾燥後の塗布面の屈折率より該反射防止フィルムの該低屈折率塗膜層面の屈折率が低いことを特徴とする反射防止フィルム。

IPC (5件)：

G02B 1/11 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 , C08J 7/06 , C09D185/00

FI (5件)：

B32B 7/02 103 , B32B 9/00 Z , C08J 7/06 Z , C09D185/00 , G02B 1/10 A

Fターム (49件)：

2K009AA03 , 2K009AA15 , 2K009BB28 , 2K009CC02 , 2K009CC26 , 2K009CC42 , 2K009CC45 , 2K009DD02 , 2K009DD06 , 4F006AA02 , 4F006AA35 , 4F006AA36 , 4F006AB64 , 4F006AB65 , 4F006AB66 , 4F006AB68 , 4F006BA14 , 4F006CA05 , 4F006DA04 , 4F100AA02B , 4F100AH02B , 4F100AH03B , 4F100AH05C , 4F100AH06C , 4F100AH08B , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA26 , 4F100GB41 , 4F100JN06 , 4F100JN18B , 4F100JN18C , 4J038DM021 , 4J038HA246 , 4J038HA326 , 4J038JA20 , 4J038JA31 , 4J038JA34 , 4J038JA48 , 4J038JB04 , 4J038JB26 , 4J038KA06 , 4J038NA19 , 4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

反射防止膜用剤および反射防止膜製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-136921 出願人：旭電化工業株式会社
反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-073740 出願人：コニカ株式会社
特開昭62-177501

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