特許
J-GLOBAL ID：200903015523774177

加熱装置及び画像形成装置

発明者：
谷口 悟

谷口 悟 について

, 
中川 健

中川 健 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-122175
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315565
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】 支持部材の熱伝導率を低下させてヒートリークを防止し、ウェイトタイムの短縮化や省電力化を図ることが可能な加熱装置及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】 加熱体3と、前記加熱体3の支持体1とを有し、該加熱体3からの熱により被加熱材Pを加熱する加熱装置107において、前記支持体1中に前記支持体1を構成する基材よりも熱伝導率の低い粒子6を分散させたこと。
請求項（抜粋）：
加熱体と、前記加熱体の支持体とを有し、該加熱体からの熱により被加熱材を加熱する加熱装置において、前記支持体中に前記支持体を構成する基材よりも熱伝導率の低い粒子を分散させたことを特徴とする加熱装置。
IPC (2件)：
H05B 3/00 335 ,  G03G 15/20 101
FI (2件)：
H05B 3/00 335 ,  G03G 15/20 101
Fターム (10件)：
2H033AA30 ,  2H033AA32 ,  2H033BA26 ,  2H033BE03 ,  3K058AA02 ,  3K058AA87 ,  3K058BA18 ,  3K058DA05 ,  3K058DA24 ,  3K058DA26
引用特許：
審査官引用 (8件)
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