縦型気相成長装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-122273
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312966
出願日： 1997年05月13日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】縦型気相成長装置において、反応室の構造を改善して、アウターリングの内周面へのシリコンあるいは塩素化合物などの堆積を防止する。【解決手段】反応室20は、ベースプレート11の上にベルジャ2を被せることによって構成される。ベルジャ2は、石英ガラス製であり、下端にフランジ部21が形成されている。ベルジャ2を衝撃から保護するため、ベルジャ2の外側はアウターベルジャ1で覆われている。ベルジャ2側のフランジ部21を、アウターベルジャ1側のフランジ部22と金属製のアウターリング10との間に、パッド8及びOリング35を介して挟み込むことによって、ベルジャ2がアウターベルジャ1に固定される。アウターリング10の内周面に沿って、当該内周面の全面を覆う様に、不透明な石英ガラス製のカバープレート14が取付けられている。

請求項（抜粋）：

ベースプレートと、下端にフランジ部が形成された石英ガラス製のベルジャと、ベルジャの外側を覆ってベルジャを保護する金属製のアウターベルジャと、前記フランジ部の下側に配置され、前記フランジ部をアウターベルジャの下端部に固定する金属製のアウターリングとを備え、ベースプレートの上にベルジャを被せることによって反応室を構成する縦型気相成長装置において、前記アウターリングの内周面に沿って、当該内周面の全面を覆う様に石英ガラス製のカバープレートを取付けたことを特徴とする縦型気相成長装置。

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-184922
縦型熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-347784 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社, 株式会社東芝
特開平2-174226

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