特許
J-GLOBAL ID:200903015943416853

低温脱硝方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岸本 瑛之助 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-070752
公開番号(公開出願番号):特開2000-262852
出願日: 1999年03月16日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 低温でも高い脱硝性能を発揮する低温脱硝方法を提供する。【解決手段】 ボイラー1 で発生した排ガスは、熱交換器2 で冷却された後、脱硝反応装置3 に入り、オゾン発生装置6 からO3を注入し、排ガス中のNOをNO2に酸化する。アンモニア注入装置8 よりNH3の注入が行われて、脱硝触媒4 によりガス中のNOxが還元された後、煙突5 から系外に排出される。一方、還元助剤としてのi-PrOHは、NH3に同伴させて注入装置8 から注入する。O3濃度はNO濃度の0.5〜10倍とするのが望ましい。
請求項(抜粋):
排ガス中の一酸化窒素の50%以上を酸化剤を用いて二酸化窒素に酸化し、生じた二酸化窒素および残存した一酸化窒素をアンモニア性還元剤および還元助剤の存在下に200°C以下の温度域で窒素および水に還元することを特徴とする低温脱硝方法。
IPC (2件):
B01D 53/56 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2件):
B01D 53/34 129 B ,  B01D 53/34 ZAB
Fターム (24件):
4D002AA12 ,  4D002AC01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002CA20 ,  4D002DA07 ,  4D002DA51 ,  4D002DA56 ,  4D002DA57 ,  4D002DA70 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB08 ,  4D002HA03 ,  4D002HA08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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