ホトリソグラフィ用洗浄液およびその循環使用方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-375267
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178589
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：

【課題】i線仕様、KrF仕様、ArF仕様等の多種多様のホトレジストに対して幅広く適用可能で、優れた洗浄性を示す洗浄液であって、かつ、使用済みの該洗浄液を高収率で回収・再生してリサイクル洗浄液として循環使用することができるホトリソグラフィ用洗浄液、およびその循環使用方法を提供する。【解決手段】(a)酢酸またはプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種と、(b)炭素数5〜7の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれる少なくとも1種とを、(a)/(b)=4/6〜7/3(質量比)の割合で含有し、かつ、(c)ホトレジストに用いられる有機溶剤を0.01質量%以上1質量%未満の割合で含有するホトリソグラフィ用洗浄液、およびその循環使用方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)酢酸またはプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種と、(b)炭素数5〜7の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれる少なくとも1種とを、(a)/(b)=4/6〜7/3(質量比)の割合で含有し、かつ、(c)ホトレジストに用いられる有機溶剤を0.01質量%以上1質量%未満の割合で含有するホトリソグラフィ用洗浄液。

IPC (6件)：

G03F 7/42 , G03F 7/32 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , H01L 21/304 , C11D 7/50

FI (6件)：

G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/004 501 , H01L21/30 577 , H01L21/304 647A , C11D7/50

Fターム (21件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025EA01 , 2H025EA10 , 2H025FA47 , 2H025FA48 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096CA01 , 2H096HA30 , 2H096LA13 , 2H096LA30 , 4H003DA15 , 4H003DA16 , 4H003DB03 , 4H003ED29 , 4H003ED30 , 4H003ED32 , 5F046JA22

引用特許：

出願人引用 (6件)

特公平05-075110号公報
特公平04-049938号公報
特開平04-042523号公報

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