反射防止塗布組成物及びパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-128916
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333855
出願日： 1994年06月10日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】従来よりも反射防止効果の大きい反射防止塗布組成物を提供し、また、このような反射防止塗布組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【構成】パターン転写に供するフォトレジスト膜上に塗布して反射防止膜を形成させるための反射防止塗布組成物において、パターン転写時に前記フォトレジスト膜及び反射防止膜に照射される光の波長と等しい波長の光を吸収する吸光剤を含有することを特徴とする反射防止塗布組成物、及び、これを用いたパターン形成方法。吸光剤によって、第2の反射光27と第3の反射光28との光量を等しくする

請求項（抜粋）：

パターン転写に供するフォトレジスト膜上に塗布して反射防止膜を形成させるための反射防止塗布組成物において、パターン転写時に前記フォトレジスト膜及び反射防止膜に照射される光の波長と等しい波長の光を吸収する吸光剤を含有することを特徴とする反射防止塗布組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 503 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭52-030428
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-287666 出願人：三菱電機株式会社
特開昭63-110725

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