特許
J-GLOBAL ID：200903016117807710

誘電体薄膜およびセラミックコンデンサ

発明者：
神垣 耕世

神垣 耕世 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205024
公開番号（公開出願番号）：特開平11-049564
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：
【要約】【課題】DCバイアス印加下でも大きな比誘電率を示し、かつ静電容量の温度変化率が小さく、高周波領域においても比誘電率が大きい誘電体薄膜およびセラミックコンデンサを提供する。【解決手段】金属元素としてPb、Mg、Nb、TiおよびNiを含むペロブスカイト型複合酸化物からなる膜厚2μm以下の誘電体薄膜であって、金属元素酸化物のモル比による組成式を、(1-x-y)Pba (Mgb/3 Nb2/3 )O3・xPba TiO3 ・yPba (Nib/3 Nb2/3 )O3 と表した時、前記x、yが、図1における点A-B-C-D-Aで囲まれる領域の範囲内であり、かつaおよびbが1≦a≦1.10、1≦b≦1.15を満足するものである。
請求項（抜粋）：
金属元素としてPb、Mg、Nb、TiおよびNiを含むペロブスカイト型複合酸化物からなる膜厚2μm以下の誘電体薄膜であって、金属元素酸化物のモル比による組成式を(1-x-y)Pba (Mgb/3 Nb2/3 )O3 ・xPba TiO3・yPba (Nib/3 Nb2/3 )O3と表した時、前記x、yが図1における点A-B-C-D-Aで囲まれる領域の範囲内であり、かつ前記aおよびbが1≦a≦1.101≦b≦1.15を満足することを特徴とする誘電体薄膜。
IPC (4件)：
C04B 35/46 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/12 302 ,  H01G 4/12 415
FI (4件)：
C04B 35/46 H ,  H01B 3/00 F ,  H01B 3/12 302 ,  H01G 4/12 415
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
  • 磁器組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-095854   出願人：日本電気株式会社
  • 磁器組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-318930   出願人：日本電気株式会社
  • 特開平2-009760
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