特許

J-GLOBAL ID：200903016143000035

感放射線性組成物

発明者： 城田 靖彦 ,  景山 弘 ,  門田 敏明 ,  甲斐 敏之
出願人/特許権者： 城田 靖彦 ,  ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-292672
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099088
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】 電子線に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成することができる感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】(A)下記式(1)【化1】(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または置換メチル基、1-置換エチル基、1-置換-n-プロピル基、1-分岐アルキル基、シリル基、アシル基、1-置換アルコキシメチル基および環状酸解離性基よりなる群から選ばれる酸解離性官能基である。但し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つは酸解離性官能基であるものとする。)で表される化合物および(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)【化1】(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または置換メチル基、1-置換エチル基、1-置換-n-プロピル基、1-分岐アルキル基、シリル基、アシル基、1-置換アルコキシメチル基および環状酸解離性基よりなる群から選ばれる酸解離性官能基である。但し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つは酸解離性官能基であるものとする。)で表される化合物および(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感放射線性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 酸に不安定な溶解抑制剤、及びそれらに基づいたポジ型及びネガ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-263211   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシヤフト
• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-066322   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-217524   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型フオトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149392   出願人：富士写真フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Development of a Novel Positive Electron-beam Molecular Resist