特許

J-GLOBAL ID：200903016150229285

ホスホール化合物の製造方法

発明者： 林 実 ,  西村 康伸 ,  渡邉 裕 ,  右馬埜 梨花 ,  酒井 亜美 ,  辻本 博海
出願人/特許権者： 国立大学法人愛媛大学
代理人 (5件)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰 ,  植木 久彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-014684
公開番号（公開出願番号）：特開2009-209130
出願日： 2009年01月26日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】様々な置換基を有する3-オキソ-λ5-ホスホール化合物の製造方法の提供。【解決手段】下記式で表されるホスホール化合物(1)の製造方法。[R1、R2およびR5は、C6-12アリール基等を、R3およびR4は、アリール基等、R6はC1-6アルキル基を、Halはハロゲン原子基を示す。]或いは、式(15)と(16)で表される化合物の付加環化反応からホスホール化合物(1)が製造される。[R11、R12およびR15は、H、C6-12アリール基等を、R13およびR14は、アリール基等を、Xは脱離基を示す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(1)で表されるホスホール化合物を製造するための方法であって、

IPC (1件)：

C07F 9/656

FI (1件)：

C07F9/6568

Fターム (8件)：

4H050AA02 ,  4H050AC20 ,  4H050BC10 ,  4H050BC11 ,  4H050BD10 ,  4H050WA01 ,  4H050WA15 ,  4H050WA26