特許
J-GLOBAL ID：200903016400439990
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-003594
公開番号（公開出願番号）：特開2005-197541
出願日： 2004年01月09日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【目的】本発明の主な目的は、回転軸218やシール手段340が処理ガスに晒されるのを防止できる基板処理装置を提供することである。【解決手段】本発明は、基板を収容し処理する処理室と、前記処理室内で基板を保持する基板保持手段と、前記処理室に開口した排気口とを有する基板処理装置であって、前記処理室が前記基板を収容する基板収容空間であって、前記排気口を含む基板収容空間と、非基板収容空間とを含み、前記基板収容空間と前記非基板収容空間との間に前記基板収容空間の雰囲気が非基板収容空間へ流入するのを防止する拡散防止体と、前記非基板収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを有し、前記不活性ガスは前記排気口より排気されることを特徴とする基板処理装置としたので、回転軸やシール手段が処理ガスに晒されるのを防止することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を収容し処理する処理室と、
前記処理室内で基板を保持する基板保持手段と、
前記処理室に開口した排気口と
を有する基板処理装置であって、
前記処理室が前記基板を収容する基板収容空間であって、前記排気口を含む基板収容空間
と、非基板収容空間とを含み、
前記基板収容空間と前記非基板収容空間との間に前記基板収容空間の雰囲気が非基板収容
空間へ流入するのを防止する拡散防止体と、
前記非基板収容空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と
を有し、
前記不活性ガスは前記排気口より排気されること
を特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
5F045AA04
, 5F045AB31
, 5F045AC08
, 5F045AC15
, 5F045AC16
, 5F045AE17
, 5F045AE19
, 5F045AE21
, 5F045DP19
, 5F045DQ05
, 5F045EB12
, 5F045EE03
, 5F045EE14
, 5F045EF05
, 5F045EM10
, 5F045EN04
, 5F045EN05
