特許
J-GLOBAL ID:200903016413814200
レーザ加工装置及び加工方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-249435
公開番号(公開出願番号):特開2003-053574
出願日: 2001年08月20日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 レーザビームで加工すべき点の位置精度を高めることが可能なレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 レーザ光源1がレーザビームを出射する。走査手段5,6が、レーザ光源から出射したレーザビームを走査する。ステージ10が、加工対象物を保持する。第1の集束光学系が、走査手段で走査されたレーザビームをステージに保持された加工対象物20上に集束させる。マスク8が、走査手段とステージとの間のレーザビームの光路を横切るように配置されている。このマスクは、レーザビームを遮光する領域内に、レーザビームを透過させる複数の透過領域を有する。透過領域の各々は、当該位置におけるレーザビームのビームスポットよりも小さい。
請求項(抜粋):
レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射したレーザビームを走査する走査手段と、加工対象物を保持するステージと、前記走査手段で走査されたレーザビームを前記ステージに保持された加工対象物上に集束させる第1の集束光学系と、前記走査手段と前記ステージとの間のレーザビームの光路を横切るように配置されたマスクであって、該マスクは、レーザビームを遮光する領域内に、レーザビームを透過させる複数の透過領域を有し、該透過領域の各々は、当該位置におけるレーザビームのビームスポットよりも小さい前記マスクとを有するレーザ加工装置。
IPC (3件):
B23K 26/06
, B23K 26/08
, B23K101:42
FI (4件):
B23K 26/06 A
, B23K 26/06 J
, B23K 26/08 B
, B23K101:42
Fターム (5件):
4E068AF00
, 4E068CD01
, 4E068CD10
, 4E068CE03
, 4E068DA11
引用特許:
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