薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-147439
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118214
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】従来の薄膜磁気ヘッドでは、ギャップデプスを所定の長さに維持したまま上部磁極層の体積を増加させることが困難だった。【解決手段】下部コア層10の上に、Gd決め絶縁層16を積層する。Gd決め絶縁層16の前端面は、下部コア層10側から上方に向うに従ってABS面からの距離が徐々に大きくなるように曲面が形成されている。上部磁極層13は、後端部をGd決め絶縁層上に載せることができ、ギャップデプスを所定の長さに維持したまま上部磁極層13の体積を増加させることができる。

請求項（抜粋）：

下部コア層と、前記下部コア層上に直接にまたは下部磁極層を介して形成されたギャップ層と、前記ギャップ層上で幅寸法が前記下部コア層よりも短く形成されてトラック幅を決める上部磁極層と、前記上部磁極層の上に形成された上部コア層とを有し、記録媒体との対向面よりもハイト方向の奥側に、ギャップ層と上部磁極層との接合面の前記ハイト方向の深さ(ギャップデプス)を決めるGd決め絶縁層が設けられ、前記上部磁極層とGd決め絶縁層との接触面は、前記ギャップデプスよりもハイト方向へ深く形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

FI (4件)：

G11B 5/31 A , G11B 5/31 C , G11B 5/31 D , G11B 5/31 E

Fターム (9件)：

5D033BA08 , 5D033BA13 , 5D033BA21 , 5D033BA71 , 5D033CA01 , 5D033CA02 , 5D033DA02 , 5D033DA04 , 5D033DA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-031771 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
薄膜磁気ヘッドの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049647 出願人：富士電気化学株式会社
特開昭63-168811

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