特許
J-GLOBAL ID：200903016500274416
プラズマノズル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-206589
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068298
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 プラズマジェットを、前処理すべき表面部分にまでより容易に到達させることができるプラズマノズルを提供すること。【解決手段】 特に、表面を前処理するためのプラズマノズルである。そのノズルは、軸芯を持つノズル通路16を区画して口部18を持つケーシング10を有し、そのノズル通路には、作動ガスが通過するようにしてある。また、そのノズルは、ノズル通路に対して同軸に配置された電極24と、ノズル通路を囲む対向電極とを持ち、そのノズル通路の口部が、ノズル通路の軸芯Aに対して所定角度で傾斜している。
請求項（抜粋）：
特に前処理するために用いられるプラズマノズルであって、口部と軸芯とを持ち、作動ガスが通過するノズル通路を区画形成するケーシングと、前記ノズル通路内に同軸状に配置される電極と、前記ノズル通路を囲む対向電極とを有し、前記ノズル通路の口部が、前記ノズル通路の軸芯に対して所定角度で傾斜していることを特徴とするプラズマノズル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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