カーボンナノファイバーの製造方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-021508
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220654
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】カーボンナノファイバーをスパッタリング法で基板上に高密度に直立配向させて形成することができるカーボンナノファイバーの製造方法及びその装置を提供する。【解決手段】 Niを蒸着し、部分エッチングを行った前処理基板1と、タングステンフィラメント2と、カーボンをスパッタ蒸着するRFマグネトロンスパッタ装置3,4,5とを具備する。

請求項（抜粋）：

(a)遷移金属を基板上へ蒸着し、部分エッチングを行う基板の前処理工程と、(b)高融点金属フィラメントを設置し、カーボンをスパッタすることにより、前記基板上にカーボンナノファイバーを高密度に直立配向させて形成する工程とを施すことを特徴とするカーボンナノファイバーの製造方法。

IPC (7件)：

C23C 14/06 , B82B 1/00 , B82B 3/00 , C01B 31/02 101 , C23C 14/35 , D01F 9/12 , H01L 29/06 601

FI (7件)：

C23C 14/06 F , B82B 1/00 , B82B 3/00 , C01B 31/02 101 F , C23C 14/35 Z , D01F 9/12 , H01L 29/06 601 N

Fターム (20件)：

4G046CB03 , 4G046CC05 , 4G046CC06 , 4K029BA02 , 4K029BA09 , 4K029BA12 , 4K029BA34 , 4K029CA05 , 4K029DC35 , 4K029DC39 , 4K029FA01 , 4L037AT02 , 4L037CS03 , 4L037FA01 , 4L037FA05 , 4L037FA19 , 4L037PA03 , 4L037PA05 , 4L037UA04 , 4L037UA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

カーボンソースガス分解用触媒金属膜を用いたカーボンナノチューブの低温合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-178515 出願人：李鉄真, 株式会社日進ナノテック
特開昭61-246357

引用文献：

審査官引用 (4件)

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