特許
J-GLOBAL ID：200903016560583841

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
ヴァン デア パッシェ,エンゲルバータス アントニウス フランシスカス

ヴァン デア パッシェ,エンゲルバータス アントニウス フランシスカス について

, 
ユッセン,エミール ジョゼフ メラニー

ユッセン,エミール ジョゼフ メラニー について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-027473
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266581
出願日： 2007年02月07日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】リソグラフィ装置の高精度変位測定システムを提供する。【解決手段】放射ビームBを調節するように構成された照明システムILと、パターニングデバイスMAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決めデバイスPMに接続されたマスク支持構造体MTとを含む。リソグラフィ装置は、基板Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTも含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、 パターニングデバイスを支持するように構成され、前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン化した放射ビームを形成することができる支持構造と、 基板を保持するように構成された基板テーブルと、 前記パターン化した放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、 前記リソグラフィ装置の基準フレームに対する可動オブジェクトの位置を、前記可動オブジェクト上に中心を有する直交x-y-z座標系の少なくとも3共面自由度(x、y、Rz)で測定するように構成された変位測定システムとを備え、 前記可動オブジェクトが、前記支持構造または前記基板テーブルの一方を含み、 前記変位測定システムが、 少なくとも3つのセンサヘッドを備え、各センサヘッドが、前記座標系のx-y平面とほぼ同一面にある測定方向に沿って配置され、前記測定方向が、前記センサヘッドと前記可動オブジェクトの中心とを結び且つ前記x-y平面と同一面に延在する線に対してほぼ垂直である、リソグラフィ装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 21/00 ,  G01B 21/22
FI (5件)：
H01L21/30 516B ,  G03F7/20 521 ,  G01B21/00 D ,  G01B21/22 ,  G01B21/00 E
Fターム (26件)：
2F069AA03 ,  2F069AA04 ,  2F069AA83 ,  2F069BB13 ,  2F069BB15 ,  2F069FF00 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG13 ,  2F069HH14 ,  2F069HH15 ,  5F046BA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC05 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046CC16 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F046DB04 ,  5F046DB10 ,  5F046DC05 ,  5F046DC11 ,  5F046DC12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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