特許
J-GLOBAL ID：200903016571239425

抗菌性低刺激化粧料

発明者：
寺井 慎

寺井 慎 について


出願人/特許権者：
株式会社ノエビア

株式会社ノエビア について


代理人 (1件)： 竹井 増美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090485
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255519
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【解決手段】 多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選んだ1種又は2種以上と、イチョウ,クマザサをはじめとする抗菌活性を有する植物の抽出物より選んだ1種又は2種以上とを含有して成る。多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテル5.0重量%以上を含有する系に、植物抽出物の1種又は2種以上を0.01〜20.0重量%併用すると、抗菌活性が相乗的に増強され、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感が著しく低減される。
請求項（抜粋）：
多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、抗菌作用を有する植物抽出物の1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (6件)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/48
FI (9件)：
A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/02 A ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/48
引用特許：
審査官引用 (24件)
  • 抗菌性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-126358   出願人：鈴木正人
  • 特開平3-093710
  • 紫外線吸収性皮膚化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284017   出願人：株式会社資生堂, 日本新薬株式会社
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