特許
J-GLOBAL ID:200903016599160859

高分子光導波路および高分子光導波路回路、およびそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-208612
公開番号(公開出願番号):特開平10-048441
出願日: 1996年08月07日
公開日(公表日): 1998年02月20日
要約:
【要約】【課題】 異種の高分子膜を自由に積層してなる高分子光導波路および高分子光導波路回路を提供するとともに、それらの製造において、製膜時の下層の高分子膜とのインタミキシングや熱処理温度の制約を受けずに、異種の高分子膜を自由に積層することができ、高分子材料の特徴である材料の多様性を十分に生かすことのできる高分子光導波路および高分子光導波路回路の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一つの高分子膜層上に、該高分子膜を溶解したり、膜の熱処理に該高分子膜の耐熱温度より高い熱処理を必要とする別の高分子材料を積層膜として用いることによって、換言すれば、下層の高分子膜あるいは積層する高分子膜のガラス転移特性を利用して、特性の異なる高分子膜を積層する。
請求項(抜粋):
有機高分子材料を多層に積層した高分子光導波路であって、該光導波路を構成する多層高分子膜層の少なくとも1つの層のガラス転移温度が、該層と直接接する下部高分子膜層のガラス転移温度より高いことを特徴とする高分子光導波路。
IPC (3件):
G02B 6/12 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/13
FI (3件):
G02B 6/12 N ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/12 M
引用特許:
審査官引用 (7件)
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