高分子光導波路及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-071282
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092338
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】コアとクラッドの熱的な特性や複屈折の問題を解決した高分子光導波路及び製造工程が簡便な高分子光導波路の製造方法を提供する。【構成】電子線照射により屈折率を制御して所定の値に定めた高分子よりなるコアと前記コアに接し、前記コアの屈折率より低い屈折率を有するクラッドよりなる高分子光導波路。高分子に電子線照射、又は描画によりコアを作製する高分子光導波路の製造方法。高分子層と該高分子層よりも屈折率の大きな高分子層が交互に形成された、2層以上の高分子多層膜に、電子線を照射して光導波路のコアを形成する高分子光導波路の製造方法。前記各工程の前後で、導電性膜の形成、除去を行う製造方法。

請求項（抜粋）：

電子線照射により屈折率を制御して所定の値に定めた高分子よりなるコアと前記コアに接し、前記コアの屈折率より低い屈折率を有するクラッドよりなることを特徴とする高分子光導波路。

IPC (4件)：

G02B 6/12 , C09K 3/00 , G02B 6/00 391 , C08G 73/10

引用特許：

出願人引用 (12件)

特開平4-235505
特開平4-235506
特開昭61-204603

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審査官引用 (3件)

特開平4-235505
特開平4-235506
特開昭61-204603

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