特許
J-GLOBAL ID：200903016674814320
ガスハイドレート掘採方法とその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-010757
公開番号（公開出願番号）：特開2003-214082
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 ガスハイドレート層を直接掘削し、掘削範囲のガス分解を制御しながら効率よく回収し、さらにガス採取後の空隙を充填可能なガスハイドレート掘採方法とその装置の提供。【解決手段】 メタンハイドレート等のガスハイドレートを含む、もしくはそのガスハイドレードに起因するジオハザードの恐れがある地層に嵌入させた掘採管30から高速噴流体3を噴射してその地層を切削破壊してガス含有混合流体4とし、該ガス含有混合流体4を地上に回収すると共に、破壊され、ガスハイドレート分解により減少した地山体積相当(ガスハイドレート地層空隙)を前記高速噴流体3の構成物で充填させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
メタンハイドレート等のガスハイドレートを含む地層に嵌入させた掘採管から高速噴流体を噴射してその地層を切削破壊してガス含有混合流体とし、該ガス含有混合流体を地上に回収すると共に、破壊され、ガスハイドレート分解・回収により減少した地山体積相当(ガスハイドレート地層空隙)を前記高速噴流体の構成物で充填させることを特徴とするガスハイドレート掘採方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
E21B 43/00 A
, E21C 50/00
2D065FA12
, 2D065FA23
, 2D065GA00
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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