特許

J-GLOBAL ID：200903016679441042

半導体製品を製造するためのデバイス

発明者： ハイネマン, ベルンハルト
出願人/特許権者： インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-608412
公開番号（公開出願番号）：特表2002-540379
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】本発明は、半導体製品(特に、ウェハ)を製造するためのデバイスに関する。このデバイスは、空気供給システムに提供される少なくとも一つのクリーンルーム(2)中の製造ユニット(1)の配置を含む。この空気供給システムにおいて、空気はクリーンルーム(2)の底(7)を介して供給される。半導体製品、とりわけウェハを製造するための設備であって、空気供給システムを備えた少なくとも一つのクリーンルーム中の製造ユニットの配置を包含し、空気供給システムは、入気を少なくとも一つのクリーンルーム(2)のフロアの領域の半導体製品を機械加工する位置に直接導入する。

請求項（抜粋）：

半導体製品、とりわけウェハを製造するための設備であって、空気供給システムを備えた少なくとも一つのクリーンルーム中の製造ユニットの配置を包含し、前記空気供給システムは、入気を前記少なくとも一つのクリーンルーム(2)のフロアの領域の前記半導体製品を機械加工する位置に直接導入する、設備。

IPC (2件)：

F24F 7/06 ,  H01L 21/02

FI (2件)：

F24F 7/06 C ,  H01L 21/02 D

Fターム (9件)：

3L058BF01 ,  3L058BF03 ,  3L058BF05 ,  3L058BF06 ,  3L058BF07 ,  3L058BF08 ,  3L058BG02 ,  3L058BG03 ,  3L058BG05

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭57-000255
  
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-173950   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 空調設備
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-061428   出願人：ダイキンプラント株式会社
• 特開平4-161749
  
• 半導体装置製造用のクリーンルーム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-109649   出願人：三星電子株式会社
• 特開昭57-000255
  
• 特開平4-161749