特許
J-GLOBAL ID：200903016694347320

干渉測定装置

発明者：
パヴェル ドラバレク

パヴェル ドラバレク について


出願人/特許権者：
ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング

ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング について


代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-142729
公開番号（公開出願番号）：特開平11-006720
出願日： 1998年05月25日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、冒頭に述べた形式の干渉測定装置を提供して、例えば測定対象物の中空室も正確に完全に測定できるようにすることである。【解決手段】 この課題は本発明により、第1の部分ビームは別のビームスプリッタにより少なくとも2つの更なる部分ビームに分割され、1つの更なる部分ビームは基準部分ビームとして、前記別のビームスプリッタから所定の距離をおいて設けられる基準反射鏡へ案内され、少なくとも1つの別の更なる部分ビームは測定部分ビームとして測定対象物のそれぞれの測定点へ偏向され、基準部分ビームおよび少なくとも1つの測定部分ビームの複数の干渉最大値はフォト検出装置および制御評価装置により個々に検出されることにより解決される。
請求項（抜粋）：
ビーム発生ユニットと、第1のビームスプリッタと、光路変更装置と、重畳エレメントと、フォト検出装置と、制御評価装置とを有し、前記ビーム発生ユニットは短コヒーレントなビームを送出し、前記第1のビームスプリッタは第1の部分ビームおよび第2の部分ビームを形成し、前記光路変更装置は光路を周期的に変化させるための反射エレメントを有し、前記第1の部分ビームは測定すべき表面へ配向され、前記第2の部分ビームは前記光路変更装置へ配向され、前記重畳エレメントは表面および装置から入射したビームを干渉させ、前記フォト検出装置は干渉されたビームを受信し、かつ対応する電気信号を制御評価装置に送出する、測定対象物での粗い表面の形状を測定するための干渉測定装置において、第1の部分ビーム(3)は少なくとも1つの別のビームスプリッタ(16、17)により少なくとも2つの更なる部分ビーム(18、19、20)に分割され、1つの更なる部分ビームは基準部分ビーム(19)として、前記別のビームスプリッタ(16、17)から所定の距離をおいて設けられる基準反射鏡(13)へ案内され、少なくとも1つの別の更なる部分ビームは測定部分ビーム(18、20)として測定対象物(7)のそれぞれの測定点(MP1、MP2)へ偏向され、基準部分ビーム(19)および少なくとも1つの測定部分ビーム(18、20)の複数の干渉最大値(ER、E1、E2)はフォト検出装置(11.1、11.2)および制御評価装置(14)により個々に検出される、ことを特徴とする測定対象物での粗い表面の形状を測定するための干渉測定装置。
IPC (2件)：
G01B 11/24 ,  G01B 9/02
FI (2件)：
G01B 11/24 D ,  G01B 9/02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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