特許
J-GLOBAL ID:200903016723000075
サイクロンエバポレータ及びそれを用いた化学蒸着システム及びそれらにおける液体の蒸発処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 陽一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-102048
公開番号(公開出願番号):特開平9-025578
出願日: 1996年04月02日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【課題】 低蒸気圧の液体前駆物質であっても制御しつつ気化し、化学蒸着処理用として量的にも質的にも十分な気体前駆物質を効率的に生成することを可能にする。【解決手段】 本発明のサイクロンエバポレータは、上側部分、及び下向きに先細の形状の下側部分を有する蒸発チャンバを内部に含む。出口管は蒸発チャンバ内部を蒸気出口と連通せしめる。液体前駆物質通路及びキャリアガス通路も外部より蒸発チャンバ内に延びる。キャリアガス流れは液体前駆物質の霧化を促進するとともに、サイクロン流れとなることによって、霧化された液体前駆物質を連行して蒸発チャンバ内に分散し、熱伝導性蒸発チャンバ壁に被着させる。壁に被着した液体前駆物質は蒸発して気体前駆物質となり、キャリアガスと共に蒸気出口から排出される。このサイクロンエバポレータは、半導体製造等でのCVDプロセスで使用される低蒸気圧の液体の蒸発用として特に有用である。
請求項(抜粋):
液体前駆物質源と、キャリアガス源と、気体前駆物質入口を有する化学蒸着リアクタアセンブリと、エバポレータ本体と、前記エバポレータ本体内部に設けられた蒸発チャンバと、キャリアガス入口及び液体前駆物質入口を有し、かつ前記蒸発チャンバ内に設けられた開口部を有する霧化器と、前記蒸発チャンバから前記エバポレータ本体を通して延在する蒸気出口と、前記液体前駆物質源と前記液体前駆物質入口との間を結合する液体前駆物質分配システムと、前記キャリアガス源と前記キャリアガス入口とを結合するキャリアガス分配システムと、前記蒸気出口と前記気体前駆物質の入口とを結合する気体前駆物質分配システムとを有することを特徴とする化学蒸着(CVD)システム。
IPC (4件):
C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/285
, H01L 21/31
FI (4件):
C23C 16/44 B
, H01L 21/205
, H01L 21/285 C
, H01L 21/31 B
引用特許:
審査官引用 (3件)
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液体材料気化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-294601
出願人:松下電器産業株式会社
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特開平3-008330
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酸化タンタル薄膜製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-148595
出願人:松下電器産業株式会社, アプライド・マテリアルズ・ジヤパン株式会社
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