特許

J-GLOBAL ID：200903016728491808

CMP研磨剤用ポリマー及び組成物

発明者： 中田 善知
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-069992
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311967
出願日： 2004年03月12日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】 CMP研磨剤用に好適なN-ビニルアミド系系ポリマーを提供する。さらに詳しくは保存安定性に優れ研磨傷が発生しにくいCMP研磨剤を与えるCMP研磨剤用N-ビニルアミド系ポリマーを提供する。 【解決手段】 N-ビニルアミド系ポリマー中に含まれる微量のN-ビニルアミド系モノマー及び/またはN-ビニルアミド系モノマーの加水分解物である含窒素化合物の含有量をN-ビニルアミド系ポリマーに対して10,000ppm以下に押さえること、またN-ビニルアミド系モノマーの加水分解物である含窒素化合物の含有量が、N-ビニルアミド系ポリマーに対して5%以下に抑える事によりCMP用研磨剤として用いた時砥粒の分散安定性が改良され、研磨傷が低減される。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

N-ビニルアミド系ポリマーであって、N-ビニルアミド系モノマーの含有量が、N-ビニルアミド系ポリマーに対して10,000ppm以下であることを特徴とするCMP研磨剤用ポリマー。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

FI (3件)：

H01L21/304 622C ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550Z

Fターム (5件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB02 ,  3C058DA13 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-309210   出願人：ロデール・ニッタ株式会社
• CMP研磨剤及び基板の研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-327297   出願人：日立化成工業株式会社