特許

J-GLOBAL ID：200903016740495525

プラズモン共鳴を利用して検体中の標的物質を検知するための検知装置に用いられる検知素子及びその製造方法

発明者： 小川 美紀 ,  宇都宮 紀彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-158636
公開番号（公開出願番号）：特開2007-017432
出願日： 2006年06月07日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：

【課題】 プラズモン共鳴を利用した検知素子の製造方法であって、金属を基板上に規則正しく配置する簡易な方法を提供すること。【解決手段】 プラズモン共鳴を利用して検体中の標的物質を検知するための検知装置に用いられる検知素子の製造方法であって、導電層を有する基板を用意する工程と、前記導電層上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層を選択的に除去して前記導電層を表出させる工程と、前記表出した導電層上に電解めっき法により金属を析出させる工程と、を有する検知素子の製造方法。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

プラズモン共鳴を利用して検体中の標的物質を検知するための検知装置に用いられる検知素子であって、 基板と、 該基板表面に設けられた導電層と、 該導電層に接続して設けられた複数の金属ドットと、を有し、該金属ドットが表面に露出していると共に、露出した金属ドットの大きさが50nm以上450nm以下の範囲にあることを特徴とする検知素子。

IPC (1件)：

G01N 21/27

FI (1件)：

G01N21/27 C

Fターム (7件)：

2G059AA05 ,  2G059CC16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059KK01 ,  2G059KK02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 局在プラズモン共鳴センサー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-167548   出願人：理化学研究所
• 構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-001294   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 分子認識素子、これを用いたバイオセンサ、及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-363131   出願人：キヤノン株式会社