超音波処理装置およびこれを用いた電子部品の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：原謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359816
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170582
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】所定幅の超音波照射領域よりも小さいサイズの超音波発振素子を複数用いて、広い領域全面に均一な超音波を照射して、洗浄処理やレジスト剥離処理などを効率的に実施可能とするとともに、各超音波発振素子を確実に制御でき、かつその制御系を簡素化し得る超音波処理装置と、これを用いた電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】所定間隔の素子間隙20を形成するように、複数の超音波発振素子を、ガラス基板10の幅方向に沿って配列して素子列14a・14bを形成し、さらに、第1列目の素子列14aの素子間隙20に対応する位置に、第2列目の素子列14を形成する超音波発振素子13を配置している。上記各素子列14a・14bを構成する超音波発振素子13の個数は、超音波照射領域の幅と超音波発振素子13のサイズにより設定される。

請求項（抜粋）：

超音波を発振する振動素子を複数備え、これら振動素子から、所定の移動方向に沿って移動する被処理体に対して、該移動方向に略直交する幅方向に所定幅の超音波照射領域を有するように超音波を照射する超音波処理装置において、上記複数の振動素子は、上記幅方向に沿って配列され、かつ個々の振動素子間には所定間隔の素子間隙が形成されている素子列を複数構成しており、これら素子列は上記移動方向に沿って並列配置され、さらに、一つの素子列における上記素子間隙を含む振動素子の未配置領域に対応する位置に、他の素子列を構成する振動素子が配置されているとともに、上記素子間隙の間隔は、各振動素子同士を絶縁する絶縁間隔を上回る間隔であることを特徴とする超音波処理装置。

IPC (6件)：

B08B 3/12 , H01L 21/027 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , G02F 1/13 101 , H05K 3/26

FI (7件)：

B08B 3/12 B , B08B 3/12 D , H01L 21/304 643 D , H01L 21/304 648 Z , G02F 1/13 101 , H05K 3/26 A , H01L 21/30 572 B

Fターム (19件)：

2H088FA21 , 2H088FA23 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 3B201AA02 , 3B201AB14 , 3B201AB42 , 3B201BB02 , 3B201BB03 , 3B201BB84 , 3B201BB85 , 3B201BB86 , 3B201BB92 , 3B201CB01 , 5E343EE05 , 5E343FF23 , 5F046MA07 , 5F046MA10

引用特許：

審査官引用 (5件)

超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-283586 出願人：株式会社国際電気エルテック, 株式会社渡邊商行
特開昭54-056255
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-168730 出願人：株式会社芝浦製作所

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