特許

J-GLOBAL ID：200903016775847360

光記録媒体用成形材料

発明者： 安達 高広 ,  安藤 和弘 ,  増本 光彦 ,  本田 典昭
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-132835
公開番号（公開出願番号）：特開2000-319377
出願日： 1999年05月13日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 成形性及び低複屈折性に優れた光記録媒体用成形材料を提供する。【解決手段】 一般式(A)、4,4'-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスフェノール及び2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンと、炭酸エステル形成化合物とを反応させてなる極限粘度が0.3 〜0.5 dl/gであることを特徴とするポリカーボネートからなる光記録媒体用成形材料。【化1】(式中、R1 〜R4 は、各々独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表す。)

請求項（抜粋）：

一般式(A)、4,4'-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスフェノール及び2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンと、炭酸エステル形成化合物とを反応させてなる極限粘度が0.3 〜0.5 dl/gであることを特徴とするポリカーボネートからなる光記録媒体用成形材料。【化1】(式中、R1 〜R4 は、各々独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表す。)

IPC (6件)：

C08G 64/06 ,  C08G 64/14 ,  C08G 64/24 ,  C08G 64/30 ,  G02B 1/04 ,  G11B 7/24 526

FI (6件)：

C08G 64/06 ,  C08G 64/14 ,  C08G 64/24 ,  C08G 64/30 ,  G02B 1/04 ,  G11B 7/24 526 G

Fターム (20件)：

4J029AA09 ,  4J029AB01 ,  4J029AB04 ,  4J029AC02 ,  4J029AD01 ,  4J029AE01 ,  4J029AE18 ,  4J029BB12A ,  4J029BB12C ,  4J029BB13A ,  4J029BD09A ,  4J029BD09B ,  4J029BD09C ,  4J029HC01 ,  4J029HC05A ,  4J029KB06 ,  4J029KB24 ,  4J029KB25 ,  5D029KA07 ,  5D029KC07

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポリカーボネート組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-189684   出願人：帝人化成株式会社
• 特開平2-304741
  
• 芳香族ポリカーボネート共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-172223   出願人：帝人化成株式会社
• 芳香族ポリカーボネートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-162463   出願人：三井東圧化学株式会社