超微粒子製造装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高木千嘉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-259163
公開番号（公開出願番号）：特開2003-062449
出願日： 2001年08月29日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】【課題】均一な粒子径を有する超微粒子を製造することができる超微粒子製造装置を提供することである。【解決手段】この超微粒子製造装置は、超微粒子発生装置2を構成する、超微粒子を形成する物質が溶解した溶液を気体により破砕微粒化して溶液の微粒子を発生させる微粒子発生ノズル及び前記微粒子発生ノズルにより発生させた微粒子の中から均一な粒子径を有する超微粒子を分別する分別容器と、前記分別容器において微粒子から分別され吐出される超微粒子を乾燥させる乾燥装置4とを備える。

請求項（抜粋）：

超微粒子を形成する物質が溶解した溶液を気体により破砕微粒化して溶液の微粒子を発生させる微粒子発生ノズルと、前記微粒子発生ノズルにより発生させた微粒子の中から均一な粒子径を有する超微粒子を分別する分別容器と、前記分別容器において微粒子から分別され吐出される超微粒子を乾燥させる乾燥装置とを備えることを特徴とする超微粒子製造装置。

IPC (6件)：

B01J 19/00 , B02C 19/06 , B02C 23/12 , B02C 25/00 , B07B 1/00 , B07B 7/06

FI (6件)：

B01J 19/00 N , B02C 19/06 B , B02C 23/12 , B02C 25/00 C , B07B 1/00 B , B07B 7/06

Fターム (29件)：

4D021AA02 , 4D021CA01 , 4D021DC01 , 4D021DC02 , 4D021EA10 , 4D021EB03 , 4D067CA02 , 4D067EE07 , 4D067EE12 , 4D067EE19 , 4D067EE22 , 4D067EE32 , 4D067FF02 , 4D067FF15 , 4D067GA20 , 4G075AA27 , 4G075AA52 , 4G075AA61 , 4G075BB02 , 4G075BB05 , 4G075BD03 , 4G075BD04 , 4G075CA12 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC01 , 4G075EC10 , 4G075FA02 , 4G075FC02

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-310735
超微粒子発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-197926 出願人：池田正明, 株式会社アトマックス
冷却造粒方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-328882 出願人：武田薬品工業株式会社, 大川原化工機株式会社

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