特許
J-GLOBAL ID：200903016797416052
水和電子生成を用いたX線パルス幅測定方法及び装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平山 一幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-131153
公開番号（公開出願番号）：特開2002-323566
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：
【要約】【課題】 フェムト秒領域のX線パルスのパルス幅を測定することができ、かつ、電気的ジッターの無い、従って精度の高い積算測定ができるX線パルスのパルス幅測定方法及び装置を提供する。【解決手段】 X線パルス3を水4に照射して水和イオンを生成すると共に、順次遅延時間を変化させたパルスレーザー光7’を水4に照射して水和イオンによる吸収率を順次測定し、この吸収率の遅延時間依存性からX線パルス3のパルス幅を測定する。
請求項（抜粋）：
X線パルスを水に照射して水和イオンを生成すると共に、該X線パルスの照射から遅延時間を有してパルスレーザー光を上記水に照射して上記水和イオンによる吸収率を測定し、この測定を上記遅延時間を順次変化させて繰り返し行い、上記吸収率の遅延時間依存性から上記X線パルスのパルス幅を測定することを特徴とする、水和電子生成を用いたX線パルス幅測定方法。
Fターム (3件)：
2G088FF02
, 2G088GG30
, 2G088KK40
