特許
J-GLOBAL ID：200903016816811588
多重露光描画方法及び多重露光描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-313934
公開番号（公開出願番号）：特開2005-084198
出願日： 2003年09月05日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】 データ変換および転送の負担を軽減し、さらに解像度の高い描画を実現する。【解決手段】 図形の輪郭を示す描画座標系ベクタデータ(アナログデータ)を、多数の変調素子を備えた露光装置に転送する。この描画座標系ベクタデータを、露光装置に固有の露光座標に適合した露光座標系ベクタデータに変換する。さらに、露光座標系ベクタデータの一部を抽出して、変調素子による露光を制御するための露光座標系ラスタデータに変換し、多重露光を実施する。そして、露光座標系ベクタデータの一部の抽出、露光座標系ラスタデータへの変換、及び多重露光を反復することにより、描画されるべき図形全ての露光座標系ベクタデータに基づいて多重露光を行い、解像度の高い描画を行う。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
被描画体に描画する全ての図形に関する情報を、図形の輪郭を示す描画座標系ベクタデータとして、多数の変調素子を備えた露光装置に転送する転送工程と、
前記露光装置において前記描画座標系ベクタデータを前記露光装置に固有の露光座標に適合した露光座標系ベクタデータに変換する第1変換工程と、
前記露光装置において前記露光座標系ベクタデータを前記変調素子による露光を制御するための露光座標系ラスタデータに変換する第2変換工程と、
前記露光座標系ラスタデータに基づいて、前記変調素子により多重露光を実施する露光工程と
を備えることを特徴とする描画方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 529
2H097AA03
, 2H097AA11
, 2H097AB05
, 2H097CA17
, 2H097GB04
, 2H097LA09
, 5F046BA06
, 5F046BA07
, 5F046CB18
