特許

J-GLOBAL ID：200903022501785210

多重露光描画装置および多重露光式描画方法

発明者： 奥山 隆志
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-240411
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050469
出願日： 2001年08月08日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 座標変換された回路パターンを高精度に描画する。【解決手段】マトリクス状に配列された多数のマイクロミラーを持つ露光ユニットを用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。座標変換が必要な場合にはマイクロミラーの相対位置の座標を座標変換し、座標変換前の座標データに対応するラスタデータをビットマップメモリ52から読み出して露光データメモリ54に格納し、格納された露光データを座標変換後の座標データに対応するマイクロミラーに与える。

請求項（抜粋）：

マトリクス状に配列された多数の変調素子を持つ少なくとも1つの露光ユニットを用いて、多重露光により所定パターンを描画面上に描画する多重露光描画装置であって、所定パターンのラスタデータを保持する第1メモリ手段と、前記描画面に対する個々の前記変調素子の相対位置を示す第1座標データを保持する第2メモリ手段と、前記描画面に対する前記露光ユニットの相対位置を示す第2座標データを保持する第3メモリ手段と、前記第1座標データおよび前記第2座標データの少なくとも何れか一方に、必要に応じて所定の座標変換を施す座標変換処理手段と、前記第1座標データと前記第2座標データとを加算し、両者の和に基づいて前記ラスタデータの画素サイズに応じたアドレスデータを算出する演算手段と、前記第1メモリ手段から前記アドレスデータに対応するラスタデータを読み出して、前記露光ユニットの個々の前記変調素子に与えるべき露光データを生成する露光データ生成手段とを備え、前記座標変換処理手段によって前記第1座標データおよび前記第2座標データの少なくとも何れか一方に前記所定の座標変換が施されることにより、前記所定パターンに前記所定の座標変換の逆変換を施して得られるパターンを前記描画面に描画することを特徴とする多重露光描画装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 ,  H05K 3/00

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 9/00 Z ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/00 H

Fターム (6件)：

2H097AA11 ,  2H097AB07 ,  2H097BA10 ,  2H097GB04 ,  2H097KA01 ,  2H097LA09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 画像記録方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-254349   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 画像記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-315523   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 改良型パターン・ジェネレータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-102101   出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット