マスク・ブランクス検査方法及びマスク・ブランク検査ツール

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：伊東忠彦 , 大貫進介 , 伊東忠重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-265399
公開番号（公開出願番号）：特開2006-080437
出願日： 2004年09月13日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：

【課題】極紫外線(EUV)光マスク・ブランクにおける欠陥の有無を判定する。【解決手段】マスク・ブランクの層における異常によって散乱又は拡散された入射EUV光を測定、正規化、閾値との比較を行うことにより欠陥の存在の有無及びその場所を判定する。正規化は画素についての光強度値を周囲画素から成る1つ以上のリングについての光強度値の平均によって除算することによって行う。欠陥は、画素についての該正規化強度値が画素閾値よりも大きいか否かを考慮して判定する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板の第1画素についての第1光強度値を検出する工程;及び該基板の複数の異なった第2画素についての複数第2光強度値を検出する工程; を有し、該第2画素が: 内周画素;及び外周画素; を有し、該外周画素が: 該内周画素の外周囲長以上の外周囲長; を有し、更に、該第1画素が該内周画素の中にあり; 更に: 該第1光強度値を、該複数第2光強度度値の平均によって、除算する工程; を有することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01N 21/956 , G03F 1/08 , G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 531A , G01N21/956 A , G03F1/08 A , G03F7/20 521

Fターム (21件)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BB03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC07 , 2G051CC11 , 2G051DA07 , 2G051EA12 , 2G051EA16 , 2G051EB01 , 2G051EC03 , 2G051ED22 , 2G051ED23 , 2H095BA10 , 2H095BD04 , 5F046GA03 , 5F046GB01 , 5F046GD11

引用特許：

審査官引用 (4件)

パターン検査装置、パターン検査方法、パターン検査用プログラムを記録した記録媒体、及びパターン検査用データを記録した記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-182775 出願人：株式会社東芝
多層膜マスク欠陥検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-309981 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
特開平4-331357

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