特許

J-GLOBAL ID：200903041527826474

X線マスクブランクの製造方法及びX線マスク用X線透過膜の製造方法

発明者： 笑喜 勉
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-080758
公開番号（公開出願番号）：特開平10-275759
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】 高精度のパターン転写が可能なX線マスクを得る際の材料たるX線マスクブランク及びX線マスク用X線透過膜を得ることを可能にする。【解決手段】 X線透過膜12となる薄膜形成工程において形成された薄膜の表面の欠陥を検査する欠陥検査工程を有すると共に、前記薄膜形成工程は、前記欠陥検査工程で検査する薄膜の表面粗さがRa(中心線平均粗さ)で1.0nm以下になるように形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくともX線透過膜を含む薄膜を形成する1又は2以上の薄膜形成工程を有するX線マスクブランクの製造方法において、前記薄膜形成工程において形成された薄膜の表面の欠陥を検査する欠陥検査工程を有すると共に、前記薄膜形成工程は、前記欠陥検査工程で検査する薄膜の表面粗さがRa(中心線平均粗さ)で1.0nm以下になるように形成するものであることを特徴とするX線マスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• X線マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-065573   出願人：ホーヤ株式会社
• X線マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-299164   出願人：日本電信電話株式会社
• X線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-160035   出願人：日本電信電話株式会社