特許

J-GLOBAL ID：200903016833744479

露光方法、露光装置およびペリクル

発明者： 白崎 享
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362926
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176791
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 ペリクルを用いたリソグラフィーにおける露光の際に、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調整することができるようにする。【解決手段】 本発明では、露光に際して、ペリクルのペリクル膜面とマスク面との平行度を調整・確保する。露光装置にマスク保持部8と、ペリクル保持部9ないしペリクル支持部10とを備えることを特徴とする。該ペリクル支持部10は、ペリクル膜面をマスク面に対して平行に調整する構造となっている。更に、本発明のリソグラフィーに用いられるペリクルは、ペリクル厚板7をフレーム3から外側にはみ出させ、このはみ出し部分を前記ペリクル保持部9に保持され得る被保持部とすることができる。

請求項（抜粋）：

ペリクルを用いたリソグラフィーにおける露光方法において、露光に際して、ペリクルのペリクル膜面とマスク面との平行度を調整・確保することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14

FI (2件)：

G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 503 D

Fターム (5件)：

2H095BC30 ,  2H095BC38 ,  5F046AA21 ,  5F046CB17 ,  5F046CC09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• フォトマスク用ペリクル枠
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-062825   出願人：三菱電機株式会社
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-254939   出願人：ウシオ電機株式会社