特許
J-GLOBAL ID：200903016837344831

ガスバリアフィルム及びその製造方法

発明者：
三上 浩一

三上 浩一 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357275
公開番号（公開出願番号）：特開2005-119160
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】薄い膜厚のガスバリアフィルムでありながら、高いバリア性を有し、しかも多湿条件下でも酸素や水蒸気等の気体に対するバリア性が低下することのない、ガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】ガスバリアフィルムは、基材フィルムと、その片面又は両面にプラズマCVD法によって形成された、酸化珪素膜とを有する。この酸化珪素膜は、珪素原子数100に対して酸素原子数170〜200及び炭素原子数30以下の成分割合を有し、さらに1055〜1065cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収を有する。酸化珪素膜の上に(a)エチレン・ビニル共重合体、並びに(b)一般式:R1mM(OR2)nで表される化合物を含有するガスバリアコーティング組成物の塗膜が積層されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材フィルムと、前記基材フィルムの片面又は両面にプラズマCVD法によって形成された酸化珪素膜とを有し、この酸化珪素膜は珪素原子数100に対して酸素原子数170〜200及び炭素原子数30以下の成分割合を有し、さらに1055〜1065cm-1の間にSi-O-Si伸縮振動に基づくIR吸収を有するものであり、前記酸化珪素膜の上に(a)エチレン・ビニル共重合体、並びに(b)一般式(1) R1mM(OR2)n・・・・・(1) (式中、Mは金属原子、R1は同一の又は異なる、炭素数1〜8の有機基、R2は同一の又は異なる、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜6のアシル基若しくはフェニル基を示し、m及びnはそれぞれ0以上の整数であり、m+nはMの原子価である)で表される、金属アルコレート、該金属アルコレートの加水分解物、金属アルコレートの縮合物、該金属アルコレートのキレート化合物、該キレート化合物の加水分解物及び金属アシレートの群から選ばれた少なくとも一種を含有するガスバリアコーティング組成物の塗膜が積層されていることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (1件)：
B32B9/00
FI (1件)：
B32B9/00 A
Fターム (15件)：
4F100AA20B ,  4F100AH08C ,  4F100AK41 ,  4F100AK68C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH46C ,  4F100EH66B ,  4F100GB15 ,  4F100JD02C ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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