特許
J-GLOBAL ID：200903016965975143

基板乾燥装置及び基板乾燥方法

発明者：
梅本 長美

梅本 長美 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282709
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114230
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 被処理基板の乾燥に要する時間を短縮する。【解決手段】 基板保持部15により保持された半導体ウェハWをロータ14により回転させるとともに、チャンバ11内の空気を排気口21を介して所定時間だけブロア24により強制排気させ、その後カバー13により開口部12を閉鎖した状態でチャンバ11内を所定時間だけチャンバ用真空ポンプ26により減圧させる。
請求項（抜粋）：
被処理基板に付着した液滴を除去して乾燥させる基板乾燥装置において、上記被処理基板を通過させるための開口部及び内部の気体を排出するための排気口を有し、上記被処理基板を収容するチャンバと、上記開口部を気密状態で閉鎖するためのカバーと、上記チャンバ内の空気を上記排気口を介して強制排気させる強制排気手段と、上記カバーにより上記開口部を閉鎖した状態で上記チャンバ内を減圧するチャンバ減圧手段と、上記強制排気手段を所定時間だけ動作させる排気制御手段と、上記強制排気手段の動作後に上記チャンバ減圧手段による減圧動作を開始させるチャンバ減圧制御手段とを備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
引用特許：
審査官引用 (2件)

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