回転式基板乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大坪隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312944
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144651
出願日： 1996年11月07日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】乾燥工程における基板の酸化を防止することのできる回転式基板乾燥装置を提供することを目的とする。【解決手段】回転式基板乾燥装置は、略円筒形のチャンバ11と、チャンバ11の上方に形成された開口部12の外周部に配設されたパッキング23と、開口部12を開閉するためのカバー13と、チャンバ11の斜め上方の予備室17内に配設された窒素ガス供給ノズル21と、開口部12の両側に配設された窒素ガス噴出ノズル24および窒素ガス吸引ノズル25と、チャンバ11の斜め下方の排出口26に接続された排気ダンパ27および真空排気ダンパ28とを有する。

請求項（抜粋）：

基板を回転させることにより基板に付着した液滴を除去して乾燥させる回転式基板乾燥装置において、基板を通過させるための開口部を有するチャンバと、前記開口部を気密状態で閉鎖するためのカバーと、前記チャンバとカバーとにより形成された空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記不活性ガス供給手段により供給された不活性ガスを前記チャンバとカバーとにより形成された空間内から排出するための排出口と、を備えることを特徴とする回転式基板乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 361 , H01L 21/304 , F26B 5/08

FI (3件)：

H01L 21/304 361 S , H01L 21/304 361 H , F26B 5/08

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-270278 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回転処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-122718 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開昭63-024626

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