特許
J-GLOBAL ID：200903017018464999
基板回転式処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-302061
公開番号（公開出願番号）：特開平9-120941
出願日： 1995年10月25日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：
【要約】【課題】 処理液供給ノズルの吐出口から吐出された処理液が基板の表面へ満遍なく供給され、基板上において処理液中にマイクロバブルが生じないようにして、処理むらの発生を防止する。【解決手段】 処理液供給ノズル10の吐出口28に対向させその吐出口と基板Wの表面との間に介在させて液当て部材24を配設し、液当て部材により、吐出口から吐出された処理液がそのまま基板上へ流下するのを遮り、吐出口から液当て部材の表面へ吐出された処理液を表面に沿って流動させ端縁から基板上へ流下させるようにした。
請求項（抜粋）：
基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させる基板保持・回転手段と、処理液を吐出する吐出口を有し、前記基板保持・回転手段に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルとを備えた基板回転式処理装置において、前記処理液供給ノズルの吐出口に対向させ、かつ、前記基板保持・回転手段に保持された基板の表面と処理液供給ノズルの吐出口との間に介在させて、吐出口から吐出された処理液がそのまま基板上へ流下するのを遮り処理液を表面に沿って流動させ端縁から基板上へ流下させる液当て部材を配設したことを特徴とする基板回転式処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 569 C
, G03F 7/30 502
