特許

J-GLOBAL ID：200903017072856614

露光装置

発明者： 宮地 剛司 ,  前原 広
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-025957
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199411
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 アライメント光の反射による位置合わせ精度の低下を防ぐ。【解決手段】 X線L1 はアパーチャ1の開口O1 を経てマスクM1 とウエハW1 に照射され、マスクM1 とウエハW1 の位置合わせに用いるアライメント光F1 はアパーチャ1のアパーチャブレード11を透過してマスクM1 とウエハW1に照射される。アパーチャブレード11の表面に反射防止膜1aを設けることでアライメント光F1 の反射を防ぎ、ゴーストによる位置合わせ精度の低下を防ぐ。

請求項（抜粋）：

開口手段の開口を通って照射される露光光によって原版の転写パターンを基板に転写する露光光学系と、前記開口手段の前記開口のまわりの所定の部分を透過するアライメント光によって前記原版と前記基板の位置合わせを行なうアライメント手段を有し、前記開口手段の前記所定の部分の少なくとも片面に、前記アライメント光の反射を防止する反射防止膜が施されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-065110
  
• 特開平3-011613
  
• X線露光用マスクおよびそれに用いるマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-218432   出願人：凸版印刷株式会社
• X線マスクおよびX線マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-155486   出願人：株式会社東芝