プラズマCVD装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岡田和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045283
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242134
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】プラズマCVD装置内の堆積物を簡易低コストな構造のものでかつ効率的にプラズマドライクリーニングできるようにする。【解決手段】反応室2内に一方側電極としての高周波電極16と、他方側電極としてのウエハ搭載台8とが配置されているとともに、高周波電極16と対向する反応室2内の適所にクリーニング専用電極24が配置され、クリーニング専用電極24によりクリーニングプラズマが励起されることで反応室内の堆積物が除去可能にされている。

請求項（抜粋）：

反応室内に一方側電極としての高周波電極と、他方側電極としてのウエハ搭載台とが配置されているとともに、前記高周波電極と対向する反応室内の適所にクリーニング専用電極が配置されており、このクリーニング専用電極によりクリーニングプラズマが励起されることで反応室内の堆積物が除去可能にされていることを特徴とするプラズマCVD装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , C23C 16/50 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (5件)：

H01L 21/31 C , C23C 16/44 J , C23C 16/50 , H01L 21/304 341 D , H01L 21/304 341 Z

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭62-130524
特開昭62-130524
特開平4-186615

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