特許

J-GLOBAL ID：200903017230660374

研磨パッド

発明者： 片山 浩二 ,  小林 正宏
出願人/特許権者： 東レコーテックス株式会社 ,  日本電気硝子株式会社
代理人 (1件)： 蔦田 璋子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-071074
公開番号（公開出願番号）：特開2002-264006
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 研磨時の立ち上げ時間が短く、平坦性の高い、高品質の製品の得られる、研磨パッドを提供する。【解決手段】 蜂窩状多孔質層3を有する研磨パッドにおいて、蜂窩状多孔質層3の表皮層2を部分的に除去し、単位面積当たりの表皮層除去率を3〜75%とする。

請求項（抜粋）：

蜂窩状多孔質層を有する研磨パッドであって、前記蜂窩状多孔質層の表皮層が部分的に除去され、単位面積当たりの表皮層除去率が3〜75%であることを特徴とする研磨パッド。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 C ,  H01L 21/304 622 F

Fターム (8件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 研磨用パッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-213737   出願人：ロデール・ニッタ株式会社
• 研磨布
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-174052   出願人：東レ株式会社
• 特開昭64-058475