特許
J-GLOBAL ID:200903003082590271

研磨布

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-174052
公開番号(公開出願番号):特開2001-001253
出願日: 1999年06月21日
公開日(公表日): 2001年01月09日
要約:
【要約】【課題】本発明は、マクロ的な精度はもちろん、ミクロ的な研磨精度をも向上させ、かつ、そのバラツキも制御することができる上に、再現性のよい研磨を達成することができる優れた研磨布を提供せんとするものである。【解決手段】本発明の研磨布は、0.3dtex以下の極細繊維を含有する不織布基材であって、該不織布基材の表面がエンボスパターンを有し、かつ、該エンボスパターンの凸部幅が60μm以下であることを特徴とするものである。
請求項(抜粋):
0.3dtex以下の極細繊維を含有する不織布基材であって、該不織布基材の表面がエンボスパターンを有し、かつ、該エンボスパターンの凸部幅が60μm以下であることを特徴とする研磨布。
IPC (2件):
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/00 C ,  H01L 21/304 622 F
Fターム (6件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058CB10 ,  3C058DA16 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (8件)
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