特許
J-GLOBAL ID：200903017274584209
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-021698
公開番号（公開出願番号）：特開2009-181062
出願日： 2008年01月31日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】焦点深度幅(DOF)などのリソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、含窒素有機化合物成分(D)とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分(D)は、窒素原子を側鎖に含む構成単位(d0)を有する含窒素高分子化合物(D1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、含窒素有機化合物成分(D)とを含有するレジスト組成物であって、
前記含窒素有機化合物成分(D)は、窒素原子を側鎖に含む構成単位(d0)を有する含窒素高分子化合物(D1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025DA03
, 2H025FA17
