特許
J-GLOBAL ID：200903017275118821
流動層ガス化及び熔融燃焼方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181478
公開番号（公開出願番号）：特開平10-009511
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】 流動層炉が少量の空気で燃焼を維持できるので、流動層炉を低空気比低温度(450〜650°C)とし、発熱を最小限に抑えて、ゆるやかに燃焼させることにより、可燃分を多量に含む均質な生成ガスを得ることができる流動層ガス化及び熔融燃焼方法を提供する。【解決手段】 可燃物が流動層炉2において、可燃ガスにガス化される方法において、流動層炉2は、流動層の温度が450〜650°Cに維持されるように温度制御され、流動層炉2で生成された可燃ガス及び微粒子は流動層上部のフリーボード102から熔融燃焼炉41へ800°C以下の状態で送られ、熔融燃焼炉41で1300°C以上で燃焼され、灰分が熔融される。
請求項（抜粋）：
可燃物が流動層炉において、可燃ガスにガス化される方法において、流動層炉は、流動層の温度が450〜650°Cに維持されるように温度制御され、流動層炉で生成された可燃ガス及び微粒子は流動層上部のフリーボードから熔融燃焼炉へ800°C以下の状態で送られ、熔融燃焼炉で1300°C以上で燃焼され、灰分が熔融されることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
F23C 11/02 305
, F23G 5/50 ZAB
, F23J 1/00
F23C 11/02 305
, F23G 5/50 ZAB E
, F23J 1/00 B
