光学系の特性を測定する方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191508
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035785
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】特に半導体製造等におけるフォトリソグラフィーにおいて、光学系の特性を短時間で容易に測定できる方法及び測定を提供する。【解決手段】レチクルと像面を互いに直交して配置する。レチクル上の複数のパターンは容積空間内に投影される。前記空間内で検出ないし記録された像を度量衡的手段で分析し、光学系の投影特性を求める。フォーカス、像湾曲、非点収差、球面収差、コマ収差、及び/又はフォーカス面ずれが測定される。

請求項（抜粋）：

レチクル面に配置され、上部に周期パターンを有したレチクルの像を、光学系により投影し、レチクル面と直交する面内で前記周期パターンを検出し、周期パターンを分析することにより、前記光学系を特徴付ける情報を得るステップを有した、光学系の特性を測定する方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/207

FI (5件)：

H01L 21/30 516 A , G03F 1/08 D , G03F 7/207 H , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 526

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-155112
特開平4-078126
テストパターンが形成されたレチクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-055011 出願人：株式会社ニコン

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