気相ラジカル重合方法およびそれにより得られるポリマー

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：青山葆 , 山本宗雄 , 後藤裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-569683
公開番号（公開出願番号）：特表2005-517771
出願日： 2003年02月18日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

本発明は、気相ラジカル重合により新規のコポリマーを製造する新規の方法およびそのコポリマーの新規組成物に関する。

請求項（抜粋）：

(a)支持体上の少なくとも1種の開始剤および気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを含有する系の存在下で、1種以上のラジカル重合性モノマーをラジカル重合する工程、 (b)該重合反応が停止するように、該気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマー濃度を低下する工程、および (c)該工程(a)の気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーとは異なる、気相中の少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを反応器中へ導入する工程を含む、少なくとも2つの異なるエチレン系不飽和モノマーを反応器中でラジカル重合する方法。

IPC (2件)：

C08F2/00 , C08F293/00

FI (2件)：

C08F2/00 C , C08F293/00

Fターム (26件)：

4J011CA01 , 4J011CA02 , 4J011CA03 , 4J011CA05 , 4J011CA08 , 4J011CA10 , 4J011CC07 , 4J011CC10 , 4J011QA01 , 4J011QA02 , 4J011QA03 , 4J011QA05 , 4J011QA09 , 4J011SA76 , 4J011SA79 , 4J026HA11 , 4J026HA22 , 4J026HA35 , 4J026HA38 , 4J026HB06 , 4J026HB10 , 4J026HB11 , 4J026HB35 , 4J026HB38 , 4J026HB45 , 4J026HE01

引用特許：

出願人引用 (3件)

国際公開第WO 00/11043号パンフレット
独国出願公開第198 05 085号明細書
国際公開第WO 98/01480号パンフレット

審査官引用 (6件)

特開平2-229839
重合性ブラシにおける高分子のアレイおよびそれを調製するための方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-266267 出願人：アフィメトリックスインコーポレイテッド
原子転移ラジカル重合を用いる新規のホモ-及びコポリマーの調製
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-505255 出願人：カーネギーメロンユニヴァーシティー

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