特許
J-GLOBAL ID：200903017333629408
基板乾燥方法と乾燥槽と洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-002683
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211686
出願日： 1994年01月14日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハなどの基板の両面を良好に且つ短時間で乾燥させることができ、枚葉式ウェーハ洗浄装置に用いて好適なウェーハ乾燥方法と乾燥槽と洗浄装置とを提供すること。【構成】 乾燥すべきウェーハなどの基板に対し、アルコール系蒸気を吐出し、基板を乾燥させる。アルコール系蒸気としては、イソプロピルアルコール蒸気を用いる。ウェーハを回転させつつ、当該ウェーハに対して、アルコール系蒸気を吐出することが好ましい。ウェーハに対して、アルコール系蒸気を吐出する前に、前記ウェーハを比較的低速で回転させることが好ましい。アルコール系蒸気を吐出した後には、アルコール系蒸気を吐出することなく、比較的高速でウェーハを回転させることもできる。
請求項（抜粋）：
枚葉式に基板を乾燥する方法において、乾燥すべき基板に対し、アルコール系蒸気を吐出し、基板を乾燥させる基板乾燥方法。
IPC (6件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304
, H01L 21/304 341
, B08B 3/02
, B08B 3/10
, F26B 21/14
