特許

J-GLOBAL ID：200903017333999884

露光方法及び装置

発明者： 塩出 吉宏 ,  三浦 聖也
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-052524
公開番号（公開出願番号）：特開2006-279029
出願日： 2006年02月28日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

【課題】フォーカスモニターマスクを使用して高精度に実デバイスマスクの平坦度を計測することが可能な露光方法及び装置を提供する。【解決手段】マスクのパターンを投影光学系で基板上に投影する露光装置の露光方法であって、第1のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、第1のマスクのパターンを投影光学系で投影した際の像面の状態を求めるステップと、像面の状態に基づいて、基板上の結像状態を変化させる露光装置の駆動系の駆動量に関連する情報を求めるステップと、第2のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、第1のマスクの平坦度に関連する情報と第2のマスクの平坦度に関連する情報とを用いて、駆動系の駆動量に関連する情報を変更するステップと、変更した駆動量に関連する情報に基づいて駆動系を駆動して、第2のマスクのパターンを投影光学系で基板上に投影するステップとを有する露光方法を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系で基板上に投影する露光装置に用いられる露光方法であって、 第1のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、 前記第1のマスクに形成されたパターンを前記投影光学系で投影した際の像面の状態を求めるステップと、 前記像面の状態に基づいて、前記基板上の結像状態を変化させられる前記露光装置の駆動系の駆動量に関連する情報を求めるステップと、 第2のマスクの平坦度に関連する情報を計測するステップと、 前記第1のマスクの平坦度に関連する情報と前記第2のマスクの平坦度に関連する情報とを用いて、前記駆動系の駆動量に関連する情報を変更するステップと、 変更された前記駆動系の駆動量に関連する情報に基づいて前記駆動系を駆動して、前記第2のマスクに形成されたパターンを前記投影光学系で基板上に投影するステップとを有することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/213

FI (3件)：

H01L21/30 516A ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/213 H

Fターム (7件)：

5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC20 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-338868   出願人：株式会社東芝
• 国際公開第02/43123号パンフレット
  
• 計測方法及びそれを用いた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-040327   出願人：キヤノン株式会社
• 国際公開第03/021352号パンフレット